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Oxygen, Carbon, Hydrogen and Nitrogen in Crystalline Silicon: Symposiumheld December 2-5, 1985, Boston, Massachusetts, U.S.A. (Materials Research Society Symposia Proceedings)
Sprache: Englisch
Verlag: Materials Research Society, 1986
ISBN 10: 0931837243 ISBN 13: 9780931837241
Anbieter: ThriftBooks-Atlanta, AUSTELL, GA, USA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Hardcover. Zustand: Very Good. No Jacket. May have limited writing in cover pages. Pages are unmarked. ~ ThriftBooks: Read More, Spend Less.
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Semiconductor-Based Sensors
Sprache: Englisch
Verlag: World Scientific Pub Co Inc, 2016
ISBN 10: 9813146729 ISBN 13: 9789813146723
Zustand: Muy bueno. : Este libro trata sobre los sensores basados en semiconductores. Cubre temas como detectores, detectores químicos y biosensores. Publicado en 2016 por World Scientific Publishing Co Pte Ltd y WSPC, el libro tiene 496 páginas y está escrito en inglés. EAN: 9789813146723 Tipo: Libros Categoría: Tecnología|Ciencias Título: Semiconductor-Based Sensors Autor: S. J. Pearton| F. Ren Idioma: en Páginas: 496.
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GaN and Related Alloys: Volume 537 (MRS Proceedings)
Sprache: Englisch
Verlag: Materials Research Society, 1999
ISBN 10: 1558994432 ISBN 13: 9781558994430
Anbieter: Majestic Books, Hounslow, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 4 von 5 Sternen
EUR 87,56
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In den WarenkorbZustand: Used. pp. 1024.
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GaN and Related Alloys: Volume 537 (MRS Proceedings)
Sprache: Englisch
Verlag: Materials Research Society, 1999
ISBN 10: 1558994432 ISBN 13: 9781558994430
Anbieter: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Deutschland
Verkäuferbewertung 4 von 5 Sternen
Zustand: Used. pp. 1024.
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Defects in Electronic Materials. Materials Research Society Symposium Proceedings. Volume 104
Sprache: Englisch
Verlag: Materials Research Society, 1988
ISBN 10: 0931837723 ISBN 13: 9780931837722
Anbieter: Zubal-Books, Since 1961, Cleveland, OH, USA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Zustand: Good. 653 pp., hardcover, ex library, else text clean and binding tight. - If you are reading this, this item is actually (physically) in our stock and ready for shipment once ordered. We are not bookjackers. Buyer is responsible for any additional duties, taxes, or fees required by recipient's country. Photos available upon request.
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Advanced III-V Compound Semiconductor Growth, Processing and Devices: Volume 240
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 1992
ISBN 10: 1558991344 ISBN 13: 9781558991347
Zustand: Gut. Zustand: Gut | Seiten: 932 | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | Keine Beschreibung verfügbar.
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Degradation Mechanisms in III-V Compound Semiconductor Devices and Structures: Volume 184
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 1991
ISBN 10: 1558990739 ISBN 13: 9781558990739
Zustand: Sehr gut. Zustand: Sehr gut | Seiten: 298 | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | Keine Beschreibung verfügbar.
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InP HBTs Growth, Processing and Applications (Artech House Materials Science Library)
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
EUR 156,80
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In den WarenkorbZustand: New. In.
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Oxygen, Carbon, Hydrogen and Nitrogen in Crystalline Silicon Symposiumheld December 2-5, 1985, Boston, Massachusetts, U. S. A.
Sprache: Englisch
Verlag: Materials Research Society, Warrendale, PA, 1986
ISBN 10: 0931837243 ISBN 13: 9780931837241
Anbieter: True Oak Books, Highland, NY, USA
Verbandsmitglied: IOBA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Erstausgabe
Hardcover. Zustand: Good+. Zustand des Schutzumschlags: No Dust Jacket. Materials Research Society Symposia Proceedings; 6.5 X 1.75 X 9.5 inches; 579 pages; graphs. Ex-Library copy with usual identifiers. Minor yellowing on pages. Very Good condition otherwise. No other noteworthy defects. No markings on text pages. ; - Your satisfaction is our priority. We offer free returns and respond promptly to all inquiries. Your item will be carefully cushioned in bubble wrap and securely boxed. All orders ship on the same or next business day. Buy with confidence. 1st Edition (Unstated); No Printing Stated.
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GaN and Related Materials: 2 (Identity in Social Context)
Anbieter: Kennys Bookstore, Olney, MD, USA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Zustand: New. 1997. 1st Edition. paperback. . . . . . Books ship from the US and Ireland.
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Zustand: Sehr gut. Zustand: Sehr gut | Seiten: 672 | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | Pattern transfer by dry etching and plasma-enhanced chemical vapor de position are two of the cornerstone techniques for modern integrated cir cuit fabrication. The success of these methods has also sparked interest in their application to other techniques, such as surface-micromachined sen sors, read/write heads for data storage and magnetic random access memory (MRAM). The extremely complex chemistry and physics of plasmas and their interactions with the exposed surfaces of semiconductors and other materi als is often overlooked at the manufacturing stage. In this case, the process is optimized by an informed "trial-and-error" approach which relies heavily on design-of-experiment techniques and the intuition of the process engineer. The need for regular cleaning of plasma reactors to remove built-up reaction or precursor gas products adds an extra degree of complexity because the interaction of the reactive species in the plasma with the reactor walls can also have a strong effect on the number of these species available for etching or deposition. Since the microelectronics industry depends on having high process yields at each step of the fabrication process, it is imperative that a full understanding of plasma etching and deposition techniques be achieved.
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Handbook of Advanced Plasma Processing Techniques
Sprache: Englisch
Verlag: Springer Berlin / Heidelberg, 2000
ISBN 10: 3540667725 ISBN 13: 9783540667728
Anbieter: Better World Books, Mishawaka, IN, USA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Zustand: Good. Pages intact with minimal writing/highlighting. The binding may be loose and creased. Dust jackets/supplements are not included. Stock photo provided. Product includes identifying sticker. Better World Books: Buy Books. Do Good.
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EUR 172,58
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In den WarenkorbGebunden. Zustand: New. InhaltsverzeichnisPart 1 Introduction: wet chemical etch mixtures for InP wet chemical etch mixtures for other III-V materials. Part 2 Growth of InP-based heterojunction bipolar transistors: substrate preparation growth behaviour and c.
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GaN and Related Materials II (Optoelectronic Properties of Semiconductors and Superlattice, Vol. 7)
Anbieter: Phatpocket Limited, Waltham Abbey, HERTS, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
EUR 228,93
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In den WarenkorbZustand: Good. Your purchase helps support Sri Lankan Children's Charity 'The Rainbow Centre'. Ex-library, so some stamps and wear, but in good overall condition. Our donations to The Rainbow Centre have helped provide an education and a safe haven to hundreds of children who live in appalling conditions.
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InP HBTs Growth, Processing and Applications
Sprache: Englisch
Verlag: Artech House Publishers Nov 1994, 1994
ISBN 10: 0890067244 ISBN 13: 9780890067246
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Deutschland
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Buch. Zustand: Neu. Neuware - This work provides a comprehensive overview of current InP HBT technology and its applications. Each chapter is written by a world-renowned expert on topics including crystal growth, processing, physics, modelling, and digital and analog circuits.
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Handbook of Advanced Plasma Processing Techniques
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
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EUR 346,97
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Handbook of Advanced Plasma Processing Techniques
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
EUR 346,97
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Handbook of Advanced Plasma Processing Techniques
Sprache: Englisch
Verlag: Springer Berlin Heidelberg, 2000
ISBN 10: 3540667725 ISBN 13: 9783540667728
EUR 338,10
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Handbook of Advanced Plasma Processing Techniques
Sprache: Englisch
Verlag: Springer Berlin Heidelberg, 2012
ISBN 10: 3642630960 ISBN 13: 9783642630965
EUR 338,10
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The Blue Laser Diode: The Complete Story
Anbieter: Revaluation Books, Exeter, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
EUR 452,31
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In den WarenkorbHardcover. Zustand: Brand New. 2nd revised enl edition. 368 pages. French language. 9.25x6.25x0.75 inches. In Stock.
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Handbook of Advanced Plasma Processing Techniques
Sprache: Englisch
Verlag: Springer, Springer Vieweg, 2012
ISBN 10: 3642630960 ISBN 13: 9783642630965
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Deutschland
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Taschenbuch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Pattern transfer by dry etching and plasma-enhanced chemical vapor de position are two of the cornerstone techniques for modern integrated cir cuit fabrication. The success of these methods has also sparked interest in their application to other techniques, such as surface-micromachined sen sors, read/write heads for data storage and magnetic random access memory (MRAM). The extremely complex chemistry and physics of plasmas and their interactions with the exposed surfaces of semiconductors and other materi als is often overlooked at the manufacturing stage. In this case, the process is optimized by an informed 'trial-and-error' approach which relies heavily on design-of-experiment techniques and the intuition of the process engineer. The need for regular cleaning of plasma reactors to remove built-up reaction or precursor gas products adds an extra degree of complexity because the interaction of the reactive species in the plasma with the reactor walls can also have a strong effect on the number of these species available for etching or deposition. Since the microelectronics industry depends on having high process yields at each step of the fabrication process, it is imperative that a full understanding of plasma etching and deposition techniques be achieved.
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Handbook of Advanced Plasma Processing Techniques
Sprache: Englisch
Verlag: Springer Berlin Heidelberg, Springer Berlin Heidelberg, 2000
ISBN 10: 3540667725 ISBN 13: 9783540667728
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Deutschland
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Buch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Pattern transfer by dry etching and plasma-enhanced chemical vapor de position are two of the cornerstone techniques for modern integrated cir cuit fabrication. The success of these methods has also sparked interest in their application to other techniques, such as surface-micromachined sen sors, read/write heads for data storage and magnetic random access memory (MRAM). The extremely complex chemistry and physics of plasmas and their interactions with the exposed surfaces of semiconductors and other materi als is often overlooked at the manufacturing stage. In this case, the process is optimized by an informed 'trial-and-error' approach which relies heavily on design-of-experiment techniques and the intuition of the process engineer. The need for regular cleaning of plasma reactors to remove built-up reaction or precursor gas products adds an extra degree of complexity because the interaction of the reactive species in the plasma with the reactor walls can also have a strong effect on the number of these species available for etching or deposition. Since the microelectronics industry depends on having high process yields at each step of the fabrication process, it is imperative that a full understanding of plasma etching and deposition techniques be achieved.
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Handbook of Advanced Plasma Processing Techniques
Anbieter: Revaluation Books, Exeter, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
EUR 574,01
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In den WarenkorbHardcover. Zustand: Brand New. 653 pages. 9.75x6.75x1.00 inches. In Stock.
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Handbook of Advanced Plasma Processing Techniques
Anbieter: Revaluation Books, Exeter, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
EUR 572,55
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In den WarenkorbPaperback. Zustand: Brand New. reprint edition. 672 pages. 9.25x6.10x1.93 inches. In Stock.
