Pearton s j (21 Ergebnisse)
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- Hardcover
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- Hardcover
Anbieter: Biblios, frankfurt am main, HESSE, DeutschlandBiblios
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Zustand: Used. pp. 1024.
- Hardcover
Anbieter: Zubal-Books, Since 1961, Cleveland, OH, USAZubal-Books, Since 1961
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- Hardcover
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes KönigreichRia Christie Collections
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Zustand: New. In.
Oxygen, Carbon, Hydrogen and Nitrogen in Crystalline Silicon Symposiumheld December 2-5, 1985, Boston, Massachusetts, U. S. A.
Mikkelsen, J. C. & S. J. Pearton & J. W. Corbett & Stephen J. Pennycook
- Hardcover
- Erstausgabe
Anbieter: True Oak Books, Highland, NY, USATrue Oak Books
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Hardcover. Zustand: Good+. No Dust Jacket. Materials Research Society Symposia Proceedings; 6.5 X 1.75 X 9.5 inches; 579 pages; graphs. Ex-Library copy with usual identifiers. Minor yellowing on pages. Very Good condition otherwise. No other noteworthy defects. No markings on text pages. ; - Your satisfaction is our priority. We… offer free returns and respond promptly to all inquiries. Your item will be carefully cushioned in bubble wrap and securely boxed. All orders ship on the same or next business day. Buy with confidence. 1st Edition (Unstated); No Printing Stated.
- Softcover
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Anbieter: Buchpark, Trebbin, DeutschlandBuchpark
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Zustand: Sehr gut. Zustand: Sehr gut | Seiten: 672 | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | Pattern transfer by dry etching and plasma-enhanced chemical vapor de position are two of the cornerstone techniques for modern integrated cir cuit fabrication. The success of these methods has also sparked interest in their applicati…on to other techniques, such as surface-micromachined sen sors, read/write heads for data storage and magnetic random access memory (MRAM). The extremely complex chemistry and physics of plasmas and their interactions with the exposed surfaces of semiconductors and other materi als is often overlooked at the manufacturing stage. In this case, the process is optimized by an informed "trial-and-error" approach which relies heavily on design-of-experiment techniques and the intuition of the process engineer. The need for regular cleaning of plasma reactors to remove built-up reaction or precursor gas products adds an extra degree of complexity because the interaction of the reactive species in the plasma with the reactor walls can also have a strong effect on the number of these species available for etching or deposition. Since the microelectronics industry depends on having high process yields at each step of the fabrication process, it is imperative that a full understanding of plasma etching and deposition techniques be achieved.
- Hardcover
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Zustand: Good. Pages intact with minimal writing/highlighting. The binding may be loose and creased. Dust jackets/supplements are not included. Stock photo provided. Product includes identifying sticker. Better World Books: Buy Books. Do Good.
- Hardcover
Anbieter: moluna, Greven, Deutschlandmoluna
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Zustand: New. InhaltsverzeichnisPart 1 Introduction: wet chemical etch mixtures for InP wet chemical etch mixtures for other III-V materials. Part 2 Growth of InP-based heterojunction bipolar transistors: substrate preparation growth behaviour and c.
- Softcover
Anbieter: Phatpocket Limited, Waltham Abbey, HERTS, Vereinigtes KönigreichPhatpocket Limited
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Zustand: Good. Your purchase helps support Sri Lankan Children's Charity 'The Rainbow Centre'. Ex-library, so some stamps and wear, but in good overall condition. Our donations to The Rainbow Centre have helped provide an education and a safe haven to hundreds of children who live in appalling conditions.
- Hardcover
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes KönigreichRia Christie Collections
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EUR 350,05
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- Softcover
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes KönigreichRia Christie Collections
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Zustand: New. In.
- Hardcover
Anbieter: moluna, Greven, Deutschlandmoluna
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- Softcover
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Zustand: New.
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Zustand: New. 1997. 1st Edition. hardcover. . . . . . Books ship from the US and Ireland.
- Hardcover
Anbieter: Revaluation Books, Exeter, Vereinigtes KönigreichRevaluation Books
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Hardcover. Zustand: Brand New. 2nd revised enl edition. 368 pages. French language. 9.25x6.25x0.75 inches. In Stock.
Sprache: Englisch
Verlag: Springer Berlin Heidelberg, Springer Berlin Heidelberg, 2000
- Hardcover
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, DeutschlandAHA-BUCH GmbH
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Buch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Pattern transfer by dry etching and plasma-enhanced chemical vapor de position are two of the cornerstone techniques for modern integrated cir cuit fabrication. The success of these methods has also sparked interest in their application to other techniques,… such as surface-micromachined sen sors, read/write heads for data storage and magnetic random access memory (MRAM). The extremely complex chemistry and physics of plasmas and their interactions with the exposed surfaces of semiconductors and other materi als is often overlooked at the manufacturing stage. In this case, the process is optimized by an informed 'trial-and-error' approach which relies heavily on design-of-experiment techniques and the intuition of the process engineer. The need for regular cleaning of plasma reactors to remove built-up reaction or precursor gas products adds an extra degree of complexity because the interaction of the reactive species in the plasma with the reactor walls can also have a strong effect on the number of these species available for etching or deposition. Since the microelectronics industry depends on having high process yields at each step of the fabrication process, it is imperative that a full understanding of plasma etching and deposition techniques be achieved.
- Softcover
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Pattern transfer by dry etching and plasma-enhanced chemical vapor de position are two of the cornerstone techniques for modern integrated cir cuit fabrication. The success of these methods has also sparked interest in their application to other tech…niques, such as surface-micromachined sen sors, read/write heads for data storage and magnetic random access memory (MRAM). The extremely complex chemistry and physics of plasmas and their interactions with the exposed surfaces of semiconductors and other materi als is often overlooked at the manufacturing stage. In this case, the process is optimized by an informed 'trial-and-error' approach which relies heavily on design-of-experiment techniques and the intuition of the process engineer. The need for regular cleaning of plasma reactors to remove built-up reaction or precursor gas products adds an extra degree of complexity because the interaction of the reactive species in the plasma with the reactor walls can also have a strong effect on the number of these species available for etching or deposition. Since the microelectronics industry depends on having high process yields at each step of the fabrication process, it is imperative that a full understanding of plasma etching and deposition techniques be achieved.
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Anbieter: Revaluation Books, Exeter, Vereinigtes KönigreichRevaluation Books
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EUR 573,03
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Hardcover. Zustand: Brand New. 653 pages. 9.75x6.75x1.00 inches. In Stock.
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EUR 571,56
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Paperback. Zustand: Brand New. reprint edition. 672 pages. 9.25x6.10x1.93 inches. In Stock.
