Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Pattern transfer by dry etching and plasma-enhanced chemical vapor de position are two of the cornerstone techniques for modern integrated cir cuit fabrication. The success of these methods has also sparked interest in their application to other techniques, such as surface-micromachined sen sors, read/write heads for data storage and magnetic random access memory (MRAM). The extremely complex chemistry and physics of plasmas and their interactions with the exposed surfaces of semiconductors and other materi als is often overlooked at the manufacturing stage. In this case, the process is optimized by an informed 'trial-and-error' approach which relies heavily on design-of-experiment techniques and the intuition of the process engineer. The need for regular cleaning of plasma reactors to remove built-up reaction or precursor gas products adds an extra degree of complexity because the interaction of the reactive species in the plasma with the reactor walls can also have a strong effect on the number of these species available for etching or deposition. Since the microelectronics industry depends on having high process yields at each step of the fabrication process, it is imperative that a full understanding of plasma etching and deposition techniques be achieved.

Bestandsnummer des Verk�ufers 9783540667728

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Bibliografische Details

Titel: Handbook of Advanced Plasma Processing Techniques
Verlag: Springer Berlin Heidelberg, Springer Berlin Heidelberg
Erscheinungsjahr: 2000
Sprache: Englisch
ISBN-10: 3540667725
ISBN-13: 9783540667728
Einband: Buch
Zustand: Neu
Abmessungen: Breite: 241 mm, H�he: 160 mm, Tiefe: 46 mm
Gewicht: 1285 Gramm

�ber diesen Titel

Inhaltsangabe

Pattern transfer by dry etching and plasma-enhanced chemical vapor de� position are two of the cornerstone techniques for modern integrated cir� cuit fabrication. The success of these methods has also sparked interest in their application to other techniques, such as surface-micromachined sen� sors, read/write heads for data storage and magnetic random access memory (MRAM). The extremely complex chemistry and physics of plasmas and their interactions with the exposed surfaces of semiconductors and other materi� als is often overlooked at the manufacturing stage. In this case, the process is optimized by an informed "trial-and-error" approach which relies heavily on design-of-experiment techniques and the intuition of the process engineer. The need for regular cleaning of plasma reactors to remove built-up reaction or precursor gas products adds an extra degree of complexity because the interaction of the reactive species in the plasma with the reactor walls can also have a strong effect on the number of these species available for etching or deposition. Since the microelectronics industry depends on having high process yields at each step of the fabrication process, it is imperative that a full understanding of plasma etching and deposition techniques be achieved.

Von der hinteren Coverseite

This volume covers the topic of advanced plasma processing techniques, from the fundamental physics of plasmas to diagnostics, modeling and applications such as etching and deposition for microelectronics. The use of plasmas for patterning on a submicron scale has enabled successive generations of continually smaller transistors, lasers, micromachines, sensors and magnetic read/write heads that have formed the basis of our information age. This volume is the first to give coverage to this broad area of topics in a detailed fashion, especially in the rapidly expanding fields of micro-mechanical machines, photomask fabrication, magnetic data storage and reactor modeling. It provides the reader with a broad array of topics, authored by the leading experts in the field.

��ber diesen Titel� kann sich auf eine andere Ausgabe dieses Titels beziehen.

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