This book focusses on the spacer engineering aspects of novel MOS-based device–circuit co-design in sub-20nm technology node, its process complexity, variability, and reliability issues. It comprehensively explores the FinFET/tri-gate architectures with their circuit/SRAM suitability and tolerance to random statistical variations.
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Sudeb Dasgupta, Brajesh Kumar Kaushik, Pankaj Kumar Pal
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Hardcover. Zustand: Brand New. 138 pages. 9.50x6.50x0.55 inches. In Stock. Artikel-Nr. __1498783597
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