This book focusses on the spacer engineering aspects of novel MOS-based device–circuit co-design in sub-20nm technology node, its process complexity, variability, and reliability issues. It comprehensively explores the FinFET/tri-gate architectures with their circuit/SRAM suitability and tolerance to random statistical variations.
Die Inhaltsangabe kann sich auf eine andere Ausgabe dieses Titels beziehen.
Sudeb Dasgupta, Brajesh Kumar Kaushik, Pankaj Kumar Pal
„Über diesen Titel“ kann sich auf eine andere Ausgabe dieses Titels beziehen.
Gratis für den Versand innerhalb von/der Deutschland
Versandziele, Kosten & DauerAnbieter: moluna, Greven, Deutschland
Zustand: New. Artikel-Nr. 594590083
Anzahl: Mehr als 20 verfügbar
Anbieter: Revaluation Books, Exeter, Vereinigtes Königreich
Paperback. Zustand: Brand New. 154 pages. 9.25x6.14x0.39 inches. In Stock. Artikel-Nr. __0367573555
Anzahl: 1 verfügbar