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Rapid Thermal and Integrated Processing II: Volume 303 (MRS Proceedings)
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, U.S.A., 1993
ISBN 10: 1558991999 ISBN 13: 9781558991996
Anbieter: RIVERLEE BOOKS, Waltham Cross, HERTS, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
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In den WarenkorbHardcover. Zustand: New. Brand new Unread but may have "damaged" stamp on one of the title pages due to cosmetic imperfection such as minor dents on cover or edge of pages or scratches on cover etc. Hardcover.
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Zustand: Sehr gut. Zustand: Sehr gut | Seiten: 389 | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | Keine Beschreibung verfügbar.
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Zustand: Sehr gut. Zustand: Sehr gut | Seiten: 435 | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | Keine Beschreibung verfügbar.
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Rapid Thermal and Integrated Processing VII: Volume 525
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 1998
ISBN 10: 1558994319 ISBN 13: 9781558994317
Zustand: Gut. Zustand: Gut | Seiten: 424 | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners.
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Zustand: Gut. Zustand: Gut | Seiten: 450 | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | Keine Beschreibung verfügbar.
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Zustand: Gut. Zustand: Gut | Seiten: 455 | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | Keine Beschreibung verfügbar.
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Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing (NATO Science Series E:, 318)
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
EUR 427,70
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Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
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Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing
Sprache: Englisch
Verlag: Springer Netherlands, Springer Netherlands, 1996
ISBN 10: 0792340116 ISBN 13: 9780792340119
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Deutschland
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Buch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Rapid thermal and integrated processing is an emerging single-wafer technology in ULSI semiconductor manufacturing, electrical engineering, applied physics and materials science. Here, the physics and engineering of this technology are discussed at the graduate level. Three interrelated areas are covered. First, the thermophysics of photon-induced annealing of semiconductor and related materials, including fundamental pyrometry and emissivity issues, the modelling of reactor designs and processes, and their relation to temperature uniformity. Second, process integration, treating the advances in basic equipment design, scale-up, integrated cluster-tool equipment, including wafer cleaning and integrated processing. Third, the deposition and processing of thin epitaxial, dielectric and metal films, covering selective deposition and epitaxy, integrated processing of layer stacks, and new areas of potential application, such as the processing of III-V semiconductor structures and thin- film head processing for high-density magnetic data storage.
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Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing
Sprache: Englisch
Verlag: Springer Netherlands, Springer Netherlands, 2010
ISBN 10: 9048146968 ISBN 13: 9789048146963
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Deutschland
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Taschenbuch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Rapid thermal and integrated processing is an emerging single-wafer technology in ULSI semiconductor manufacturing, electrical engineering, applied physics and materials science. Here, the physics and engineering of this technology are discussed at the graduate level. Three interrelated areas are covered. First, the thermophysics of photon-induced annealing of semiconductor and related materials, including fundamental pyrometry and emissivity issues, the modelling of reactor designs and processes, and their relation to temperature uniformity. Second, process integration, treating the advances in basic equipment design, scale-up, integrated cluster-tool equipment, including wafer cleaning and integrated processing. Third, the deposition and processing of thin epitaxial, dielectric and metal films, covering selective deposition and epitaxy, integrated processing of layer stacks, and new areas of potential application, such as the processing of III-V semiconductor structures and thin- film head processing for high-density magnetic data storage.
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Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing
Anbieter: Revaluation Books, Exeter, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
EUR 614,70
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In den WarenkorbPaperback. Zustand: Brand New. 584 pages. 9.00x6.25x1.31 inches. In Stock.
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Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing
Sprache: Englisch
Verlag: Kluwer Academic Publishers, 1996
ISBN 10: 0792340116 ISBN 13: 9780792340119
Anbieter: Kennys Bookstore, Olney, MD, USA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Zustand: New. Proceedings of the NATO Advanced Study Institute, Acquafredda di Maratea, Italy, July 3-14, 1995 Editor(s): Roozeboom, Fred. Series: NATO Science Series E:. Num Pages: 578 pages, biography. BIC Classification: PHFC; TJFD5. Category: (P) Professional & Vocational; (UP) Postgraduate, Research & Scholarly. Dimension: 235 x 155 x 31. Weight in Grams: 989. . 1996. Hardback. . . . . Books ship from the US and Ireland.
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Zustand: Sehr gut. Zustand: Sehr gut | Produktart: Bücher | Keine Beschreibung verfügbar.
