9780081003541 - materials and processes for next generation lithography (volume 11) (frontiers of nanoscience, volume 11, band 11) (4 Ergebnisse)
- Hardcover
Anbieter: Majestic Books, Hounslow, Vereinigtes KönigreichMajestic Books
Verkäufer/-in kontaktierenVerkäufer/-in mit 4 SternenZustand: Neu
EUR 157,18
EUR 7,60 VersandVersand von Vereinigtes Königreich nach USAAnzahl: 3 verfügbar
Zustand: New. pp. 634.
- Hardcover
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes KönigreichRia Christie Collections
Verkäufer/-in kontaktierenVerkäufer/-in mit 5 SternenZustand: Neu
EUR 193,09
EUR 14,01 VersandVersand von Vereinigtes Königreich nach USAAnzahl: Mehr als 20 verfügbar
Zustand: New. In.
- Hardcover
Anbieter: moluna, Greven, Deutschlandmoluna
Verkäufer/-in kontaktierenVerkäufer/-in mit 5 SternenZustand: Neu
EUR 228,97
EUR 48,99 VersandVersand von Deutschland nach USAAnzahl: Mehr als 20 verfügbar
Zustand: New.
Sprache: Englisch
Verlag: Elsevier Science & Technology, Elsevier Nov 2016, 2016
Serie: Buch 11 von 21 - ISSN
- Hardcover
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, DeutschlandAHA-BUCH GmbH
Verkäufer/-in kontaktierenVerkäufer/-in mit 5 SternenZustand: Neu
EUR 317,00
EUR 67,25 VersandVersand von Deutschland nach USAAnzahl: 2 verfügbar
Buch. Zustand: Neu. Neuware - As the requirements of the semiconductor industry have become more demanding in terms of resolution and speed it has been necessary to push photoresist materials far beyond the capabilities previously envisioned. Currently there is significant worldwide research effort in to so called Next Generatio…n Lithography techniques such as EUV lithography and multibeam electron beam lithography. These developments in both the industrial and the academic lithography arenas have led to the proliferation of numerous novel approaches to resist chemistry and ingenious extensions of traditional photopolymers. Currently most texts in this area focus on either lithography with perhaps one or two chapters on resists, or on traditional resist materials with relatively little consideration of new approaches. This book therefore aims to bring together the worlds foremost resist development scientists from the various community to produce in one place a definitive description of the many approaches to lithography fabrication.
