Materials and Processes for Next Generation Lithography

Sprache: Englisch

Verlag: Elsevier Inc Dez 2016, 2016

0081003544 / 9780081003541

Serie: Buch 11 von 21 - ISSN

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Artikelbeschreibung vom Verkäufer

Neuware - As the requirements of the semiconductor industry have become more demanding in terms of resolution and speed it has been necessary to push photoresist materials far beyond the capabilities previously envisioned. Currently there is significant worldwide research effort in to so called Next Generation Lithography techniques such as EUV lithography and multibeam electron beam lithography. These developments in both the industrial and the academic lithography arenas have led to the proliferation of numerous novel approaches to resist chemistry and ingenious extensions of traditional photopolymers. Currently most texts in this area focus on either lithography with perhaps one or two chapters on resists, or on traditional resist materials with relatively little consideration of new approaches. This book therefore aims to bring together the worlds foremost resist development scientists from the various community to produce in one place a definitive description of the many approaches to lithography fabrication.

Bestandsnummer des Verkäufers 9780081003541

Titel
Materials and Processes for Next Generation Lithography
Autor
Richard Lawson
Verlag
Elsevier Inc Dez 2016
Veröffentlichungsjahr
2016
Zustand
Neu
Einband
Buch
Sprache
Englisch
ISBN-10
0081003544
ISBN-13
9780081003541
Artikelgewicht
1.298 Gramm
Abmessungen
235x191x35 mm
Serie
Buch 11 von 21: ISSN

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