This book discusses the study of simulating the growth of a thin film by chemical vapour deposition (CVD) processes. In recent years, due to the research in producing high-temperature films by depositing low pressures, the processes have increased and understanding the control mechanism of such processes has become very important. An underlying hierarchy of models for low-temperature and low-pressure plasma is presented in order to discuss the processes that can be used to implant or deposit thin layers of important materials. Due to the multi-scale problem of the flow and reaction processes, the authors propose multi-scale problems which are divided into near-field and far-field models.

�ber die Autorin bzw. den Autor

Charlotte y Peter Fiell son dos autoridades en historia, teor�a y cr�tica del dise�o y han escrito m�s de sesenta libros sobre la materia, muchos de los cuales se han convertido en �xitos de ventas. Tambi�n han impartido conferencias y cursos como profesores invitados, han comisariado exposiciones y asesorado a fabricantes, museos, salas de subastas y grandes coleccionistas privados de todo el mundo. Los Fiell han escrito numerosos libros para TASCHEN, entre los que se incluyen 1000 Chairs, Dise�o del siglo XX, El dise�o industrial de la A a la Z, Scandinavian Design y Dise�o del siglo XXI.

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