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Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus (Materials Science and Technologies) - Hardcover
Inhaltsangabe
This book discusses the study of simulating the growth of a thin film by chemical vapour deposition (CVD) processes. In recent years, due to the research in producing high-temperature films by depositing low pressures, the processes have increased and understanding the control mechanism of such processes has become very important. An underlying hierarchy of models for low-temperature and low-pressure plasma is presented in order to discuss the processes that can be used to implant or deposit thin layers of important materials. Due to the multi-scale problem of the flow and reaction processes, the authors propose multi-scale problems which are divided into near-field and far-field models.
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Über die Autorin bzw. den Autor
Charlotte y Peter Fiell son dos autoridades en historia, teoría y crítica del diseño y han escrito más de sesenta libros sobre la materia, muchos de los cuales se han convertido en éxitos de ventas. También han impartido conferencias y cursos como profesores invitados, han comisariado exposiciones y asesorado a fabricantes, museos, salas de subastas y grandes coleccionistas privados de todo el mundo. Los Fiell han escrito numerosos libros para TASCHEN, entre los que se incluyen 1000 Chairs, Diseño del siglo XX, El diseño industrial de la A a la Z, Scandinavian Design y Diseño del siglo XXI.
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Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus: Theory and Applications
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Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus
Verlag:
Nova Science Publishers, Incorporated, 2012
ISBN 10: 1621003655
ISBN 13: 9781621003656
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Geiser, J: Simulation of Deposition Processes with PECVD App
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Gebunden. Zustand: New. Discusses the study of simulating the growth of a thin film by chemical vapour deposition (CVD) processes. This title presents underlying hierarchy of models for low-temperature and low-pressure plasma in order to discuss the processes that can be used to i. Artikel-Nr. 596442776
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Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus
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Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus
Verlag:
Nova Science Publishers Inc Jan 2012, 2012
ISBN 10: 1621003655
ISBN 13: 9781621003656
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Hardcover
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Deutschland
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Buch. Zustand: Neu. Neuware - This book discusses the study of simulating the growth of a thin film by chemical vapour deposition (CVD) processes. In recent years, due to the research in producing high-temperature films by depositing low pressures, the processes have increased and understanding the control mechanism of such processes has become very important. An underlying hierarchy of models for low-temperature and low-pressure plasma is presented in order to discuss the processes that can be used to implant or deposit thin layers of important materials. Due to the multi-scale problem of the flow and reaction processes, the authors propose multi-scale problems which are divided into near-field and far-field models. Artikel-Nr. 9781621003656
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Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus
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Zustand: New. Num Pages: 144 pages, Illustrations. BIC Classification: TGM. Category: (P) Professional & Vocational. Dimension: 234 x 162 x 14. Weight in Grams: 352. . 2012. Hardcover. . . . . Books ship from the US and Ireland. Artikel-Nr. V9781621003656
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