Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System

Sprache: Englisch

Verlag: Springer, 2014

4431547940 / 9784431547945

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Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book provides for the first time a good understanding of the etching profile technologies that do not disturb the plasma. Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data. Readers are made familiar with these sensors, which can measure real plasma process surface conditions such as defect generations due to UV-irradiation, ion flight direction due to charge-up voltage in high-aspect ratio structures and ion sheath conditions at the plasma/surface interface. The plasma etching profile realistically predicted by a computer simulation based on output data from these sensors is described.

Bestandsnummer des Verkäufers 9784431547945

Titel
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System
Autor
Seiji Samukawa
Verlag
Springer
Erscheinungsjahr
2014
Zustand
Neu
Einband
Taschenbuch
Sprache
Englisch
ISBN-10
4431547940
ISBN-13
9784431547945
Artikelgewicht
96 Gramm
Abmessungen
235x155x4 mm

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