Ultrathin SiO2 and High-K Materials for ULSI Gate Dielectrics: Symposium Held April 5-8, 1999 San Francisco, California, U.S.A. (Materials Research Society Symposium Proceedings, Band 567) - Hardcover

Edited By H. R. Huff , C. A. Richter , M. L. Green , G. Lucovsky , T. Hattori

 
9781558994744: Ultrathin SiO2 and High-K Materials for ULSI Gate Dielectrics: Symposium Held April 5-8, 1999 San Francisco, California, U.S.A. (Materials Research Society Symposium Proceedings, Band 567)
Hardcover
ISBN 10: 1558994742 ISBN 13: 9781558994744
Verlag: Cambridge University Press, 1999

Inhaltsangabe

The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners.

Die Inhaltsangabe kann sich auf eine andere Ausgabe dieses Titels beziehen.

Verlag
Cambridge University Press
Erscheinungsdatum
1999
Sprache
Englisch
ISBN 10 
1558994742
ISBN 13 
9781558994744
Einband
Gebundene Ausgabe
Anzahl der Seiten
615
Kontakt zum Hersteller
Nicht verfügbar
Verantwortliche Person
Avery
https://www.avery.fr/

chemin des peupliers 27
Dardilly
Frankreich