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Inhaltsangabe
Addresses electromigration failure modes in electronics covering both theory and experiments. Reviews silicon and GaAs technologies. Various rate controlling details are summarized including an investigation of temperature dependence. Concludes with a discussion regarding current status and future plans for electromigration resistant advanced metallization systems for VLSI.
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Über die Autorin bzw. den Autor
Aris Christou is the author of Electromigration and Electronic Device Degradation, published by Wiley.
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Electromigration and Electronic Device Degradation
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Zustand: New. This study reviews an important reliability issue for both silicon and GaAs technologies. It surveys the status of electromigration physics in microelectronics, and summarizes various rate controlling details.Über den AutorAr. Artikel-Nr. 446917350
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Zustand: New. This study reviews an important reliability issue for both silicon and GaAs technologies. It surveys the status of electromigration physics in microelectronics, and summarizes various rate controlling details. Editor(s): Christou, Aris. Num Pages: 344 pages, black & white illustrations. BIC Classification: PHK; TGPR; TJK; UY. Category: (P) Professional & Vocational; (UP) Postgraduate, Research & Scholarly; (XV) Technical / Manuals. Dimension: 236 x 165 x 26. Weight in Grams: 682. . 1993. 1st Edition. Hardcover. . . . . Books ship from the US and Ireland. Artikel-Nr. V9780471584896
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