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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-K Dielectrics: Volume 612 (MRS Proceedings)
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and LowK Dielectrics: Volume 612 (MRS Proceedings)
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Anbieter: Kennys Bookstore, Olney, MD, USA
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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-K Dielectrics : Volume 612
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 110741315X ISBN 13: 9781107413153
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Deutschland
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book highlights important achievements and challenges in advanced interconnects and low-k dielectrics as employed in the microelectronics industry. The replacement of Al alloys with Cu along with the introduction of new barrier materials to protect Cu from chemical attack, and the utilization of new dielectric materials with a lower relative dielectric constant k than SiO2 in multilevel metallization structures of increasing complexity, are the major themes of evolution in this field. Invited reviews illustrate the significant progress that has been achieved as well as the challenges that remain. Contributed papers presented by researchers from different countries demonstrate progress on current topics using a truly multidisciplinary approach.
