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9789814316293 - Lattice Engineering: Technology and Applications (4 Ergebnisse)
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Lattice Engineering: Technology and Applications
Sprache: Englisch
Verlag: Jenny Stanford Publishing, 2012
ISBN 10: 9814316296 ISBN 13: 9789814316293
Anbieter: Reuseabook, Gloucester, GLOS, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
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In den Warenkorbhardcover. Zustand: Used; Like New. Dispatched, from the UK, within 48 hours of ordering. This book is in mint condition. Both the pages and the cover are completely intact, without zero sign of previous usage.
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Lattice Engineering: Technology and Applications
Anbieter: Revaluation Books, Exeter, Vereinigtes Königreich
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In den WarenkorbHardcover. Zustand: Brand New. 1st edition. 400 pages. 9.02x6.26x1.10 inches. In Stock.
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Lattice Engineering
Sprache: Englisch
Verlag: Jenny Stanford Publishing, 2012
ISBN 10: 9814316296 ISBN 13: 9789814316293
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In den WarenkorbGebunden. Zustand: New. Shumin Wang is Professor at Photonics Laboratory, Department of Microtechnology and Nanoscience, Chalmers University of Technology, Sweden. He received BSc and MSc from Department of Physics, Fudan University, China, in 1985 and 1988, re.
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Lattice Engineering : Technology and Applications
Sprache: Englisch
Verlag: Pan Stanford Publishing Pte Ltd Nov 2012, 2012
ISBN 10: 9814316296 ISBN 13: 9789814316293
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Deutschland
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Buch. Zustand: Neu. Neuware - This book contains comprehensive reviews of different technologies to harness lattice mismatch in semiconductor heterostructures and their applications in electronic and optoelectronic devices. While the book is a bit focused on metamorphic epitaxial growth, it also includes other methods like compliant substrate, selective area growth, wafer bonding, heterostructure nanowires, and more. Basic knowledge on dislocations in semiconductors and innovative methods to eliminate threading dislocations are provided, and successful device applications are reviewed. It covers a variety of important semiconductor materials like SiGe, III-V including GaN and nano-wires; epitaxial methods like molecular beam epitaxy and metal organic vapor phase epitaxy; and devices like transistors and lasers etc.
