ISBN: 9783838333885 - hafnium oxide and hafnium silicate for high-k application: characterization of hafnium based oxide thin films deposited by cvd: characterization of ... for high-k application in transistors (1 Ergebnisse)

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Hafnium Oxide And Hafnium Silicate For High-k Application | Characterization of Hafnium Based Oxide Thin Films Deposited by CVD & Plasma-CVD For High-k Application in Transistors
Harish Bhandari
Sprache: Englisch
Verlag: LAP LAMBERT Academic Publishing, 2010
3838333888 / 9783838333885
- Softcover
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Hafnium Oxide And Hafnium Silicate For High-k Application | Characterization of Hafnium Based Oxide Thin Films Deposited by CVD & Plasma-CVD For High-k Application in Transistors | Harish Bhandari | Taschenbuch | 232 S. | Englisch | 2010 | LAP LAMBERT Academic Publishing | EAN 9783838333885 | Verantwortliche Person für die EU: BoD - Books on Demand, In de Tarpen 42, 22848 Norderstedt, info[at]bod[dot]de | Anbieter: preigu.…