9781441925800 - evolution of thin film morphology: modeling and simulations (springer series in materials science, band 108) von pelliccione, matthew (4 Ergebnisse)
Sprache: Englisch
Verlag: Springer 2010
Serie: Springer Series in Materials Science, Buch 16 von 233. Buch 16 von 233 - Springer Series in Materials Science
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Verlag: Springer US 2010
Serie: Springer Series in Materials Science, Buch 16 von 233. Buch 16 von 233 - Springer Series in Materials Science
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Evolution of Thin Film Morphology | Modeling and Simulations | Toh-Ming Lu (u. a.) | Taschenbuch | xi | Englisch | 2010 | Springer US | EAN 9781441925800 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, juergen[dot]hartmann[at]springer[dot]com | Anbieter:…preigu.
Sprache: Englisch
Verlag: Springer New York, Springer US 2010
Serie: Springer Series in Materials Science, Buch 16 von 233. Buch 16 von 233 - Springer Series in Materials Science
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Thin lmdepositionisthemostubiquitousandcriticaloftheprocessesusedto manufacture high-tech devices such as microprocessors, memories, solar cells, microelectromechanicalsystems(MEMS),lasers,solid-statelighting,andp- tovoltaics. The morphology and micr…ostructure of thin lms directly controls their optical, magnetic, and electrical properties, which are often signi cantly di erent from bulk material properties. Precise control of morphology and microstructure during thin lm growth is paramount to producing the - sired lm quality for speci c applications. To date, many thin lm deposition techniques have been employed for manufacturing lms, including thermal evaporation,sputterdeposition,chemicalvapordeposition,laserablation,and electrochemical deposition. The growth of lms using these techniques often occurs under highly n- equilibrium conditions (sometimes referred to as far-from-equilibrium), which leads to a rough surface morphology and a complex temporal evolution. As atoms are deposited on a surface, atoms do not arrive at the surface at the same time uniformly across the surface. This random uctuation, or noise, which is inherent to the deposition process, may create surface growth front roughness. The noise competes with surface smoothing processes, such as surface di usion, to form a rough morphology if the experiment is performed at a su ciently low temperature and / or at a high growth rate. In addition, growth front roughness can also be enhanced by growth processes such as geometrical shadowing. Due to the nature of the deposition process, atoms approaching the surface do not always approach in parallel; very often atoms arrive at the surface with an angular distribution.
Sprache: Englisch
Verlag: Springer 2007
Serie: Springer Series in Materials Science, Buch 16 von 233. Buch 16 von 233 - Springer Series in Materials Science
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Paperback. Zustand: Brand New. 220 pages. 9.10x6.10x0.70 inches. In Stock.
