ISBN: 9781420066852 - sige and si strained-layer epitaxy for silicon heterostructure devices (2 Ergebnisse)
von John D. Cressler
Cressler, J: SiGe and Si Strained-Layer Epitaxy for Silicon
John D. Cressler (Georgia Institute of Technology, Atlanta, USA)
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Buch. Zustand: Neu. Neuware - Focuses on the materials science aspects of silicon heterostructure. This book defines the various advances in the Si-SiGe strained-layer epitaxy for device applications. It covers modern SiGe epitaxial growth techniques, EPI defects and dopant diffusion in thin films, stability constraints, and electronic properties of SiGe and Si-C alloys. …
