9781402051876 - design for manufacturability and yield for nano-scale cmos (integrated circuits and systems) von chiang, charles; kawa, jamil (8 Ergebnisse)
Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2007
Serie: Integrated Circuits and Systems, Buch 5 von 34. Buch 5 von 34 - Integrated Circuits and Systems
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Verlag: Springer, 2007
Serie: Integrated Circuits and Systems, Buch 5 von 34. Buch 5 von 34 - Integrated Circuits and Systems
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Zustand: Bueno. : Este libro aborda el diseño para la fabricabilidad y el rendimiento de CMOS a nanoescala. Explora los desafíos y soluciones en el diseño de circuitos integrados a nanoescala, centrándose en la optimización para la fabricación y el rendimiento. Cubre temas como la variabilidad del proceso, la gestión de la energ…ía y las técnicas de diseño para mejorar la fiabilidad y el rendimiento de los sistemas CMOS a nanoescala. EAN: 9781402051876 Tipo: Libros Categoría: Tecnología|Ciencias Título: Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS Autor: Charles Chiang| Jamil Kawa Editorial: Springer Idioma: eng Páginas: 253 Formato: tapa dura.
Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2007
Serie: Integrated Circuits and Systems, Buch 5 von 34. Buch 5 von 34 - Integrated Circuits and Systems
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Verlag: Springer, 2007
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Verlag: Springer Netherlands, 2007
Serie: Integrated Circuits and Systems, Buch 5 von 34. Buch 5 von 34 - Integrated Circuits and Systems
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Verlag: Springer, 2007
Serie: Integrated Circuits and Systems, Buch 5 von 34. Buch 5 von 34 - Integrated Circuits and Systems
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Verlag: Springer, Springer Netherlands, 2007
Serie: Integrated Circuits and Systems, Buch 5 von 34. Buch 5 von 34 - Integrated Circuits and Systems
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Buch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS walks the reader through all the aspects of manufacturability and yield in a nano-CMOS process and how to address each aspect at the proper design step starting with the design and layout of standar…d cells and how to yield-grade libraries for critical area and lithography artifacts through place and route, CMP model based simulation and dummy-fill insertion, mask planning, simulation and manufacturing, and through statistical design and statistical timing closure of the design. It alerts the designer to the pitfalls to watch for and to the good practices that can enhance a design's manufacturability and yield. This book is a must read book the serious practicing IC designer and an excellent primer for any graduate student intent on having a career in IC design or in EDA tool development.
