9780863413346 - simox (processing, band 4) von izumi, katsutoshi; hemment, peter l. f.; ogura, atsushi; hovel, harold j.; sadana, devendra k. (5 Ergebnisse)
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Sprache: Englisch
Verlag: INSTITUTION OF ENGINEERING & T, 2004
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Zustand: New. Inhaltsverzeichnisrnrnn Chapter 1: Introductionn Chapter 2: Overview of SIMOX technology: historical perspectiven Chapter 3: Fundamental processes in SIMOX layer formation: ion implantation and oxide growthn Ch.
Sprache: Englisch
Verlag: Peter Peregrinus Ltd, 2005
- Hardcover
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Hardcover. Zustand: Brand New. illustrated edition. 143 pages. 9.75x7.50x0.50 inches. In Stock.
Sprache: Englisch
Verlag: The Institution of Engineering and Technology, 2004
- Hardcover
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Zustand: New.
Sprache: Englisch
Verlag: Institution of Engineering & Technology, 2004
- Hardcover
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Zustand: Gut. Zustand: Gut | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | SIMOX represents the first effort to compile a broad spectrum of knowledge from various groups of researchers and technologists in the world. It provides the reader with a basic understanding of SIMOX technology and in addition gives a good starting point for…further investigation and applications.
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Sprache: Englisch
Verlag: Institution Of Engineering & Technology Dez 2004, 2004
- Hardcover
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, DeutschlandAHA-BUCH GmbH
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Buch. Zustand: Neu. Neuware - SIMOX explores Separation-by-IMplanted-OXygen technology, a method of fabricating silicon-on-insulator structures and substrates by implanting high doses of oxygen and high temperature annealing. The content includes an historical perspective on the development of SIMOX technology and a discussion o…f the theoretical background to the underlying formation of SIMOX buried oxide. It also describes the fabrication processes and material characterisation, and covers crucial advancements in evolution of manufacturability from experimental research stage to production-worthy processes proven to support advanced SOI products. In addition to the topics directly pertaining to SIMOX, the book offers wealth of information on ion implantation, thermal processing in extreme conditions, material defects, characterisation techniques, applications and future technology trends. The book consists of sequence of chapters, each written by a key contributor to the field and represents the first effort to compile broad knowledge of this still evolving technology. It provides the reader with a basic understanding of SIMOX technology and a background for further investigations and applications.
