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9780750331050 - Chemical Vapour Deposition: Growth processes on an atomic level (IOP ebooks) von Larsson, Karin (5 Ergebnisse)
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Chemical Vapour Deposition
Sprache: Englisch
Verlag: Institute of Physics Publishing, 2022
ISBN 10: 0750331054 ISBN 13: 9780750331050
Anbieter: PBShop.store UK, Fairford, GLOS, Vereinigtes Königreich
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Chemical Vapour Deposition: Growth Processes on an Atomic Level
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
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Chemical Vapour Deposition
Sprache: Englisch
Verlag: Institute of Physics Publishing, 2022
ISBN 10: 0750331054 ISBN 13: 9780750331050
Anbieter: PBShop.store US, Wood Dale, IL, USA
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Chemical Vapour Deposition: Growth Processes on an Atomic Level
Sprache: Englisch
Verlag: Institute of Physics Publishing, 2022
ISBN 10: 0750331054 ISBN 13: 9780750331050
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Chemical Vapour Deposition : Growth processes on an atomic level
Sprache: Englisch
Verlag: IOP Publishing Ltd Dez 2022, 2022
ISBN 10: 0750331054 ISBN 13: 9780750331050
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Deutschland
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Buch. Zustand: Neu. Neuware - Chemical vapour deposition (CVD) is a vacuum deposition method used to produce high-quality, high-performance, solid materials. This is the first book to cover CVD growth processes at the atomic level using a combination of theoretical and experimental tools, including density functional theory (DFT) calculations. By demonstrating the methodology behind the modelling and simulation of CVD growth processes, the text provides guidance and practical advice on how to acquire successful theoretical results. Worked examples, case studies, end-of-chapter summaries and animations of atomic-level surface processes are included to aid learning. After reading this text, researchers and students will have the knowledge they need to tailor-make desired growth processes for the deposition of materials with specific properties.
