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Ligand Field Theory and Its Applications
Anbieter: ThriftBooks-Dallas, Dallas, TX, USA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Hardcover. Zustand: Very Good. No Jacket. May have limited writing in cover pages. Pages are unmarked. ~ ThriftBooks: Read More, Spend Less.
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Sprache: Englisch
Verlag: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Anbieter: Romtrade Corp., STERLING HEIGHTS, MI, USA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Zustand: New. This is a Brand-new US Edition. This Item may be shipped from US or any other country as we have multiple locations worldwide.
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Chemical Vapour Deposition
Sprache: Englisch
Verlag: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Anbieter: Romtrade Corp., STERLING HEIGHTS, MI, USA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Sprache: Englisch
Verlag: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Anbieter: Romtrade Corp., STERLING HEIGHTS, MI, USA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
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Ligand Field Theory and Its Applications (Special Topics in Inorganic Chemistry)
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
EUR 167,15
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In den WarenkorbZustand: New. In.
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Ligand Field Theory and Its Applications
Anbieter: Majestic Books, Hounslow, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 4 von 5 Sternen
EUR 205,85
EUR 7,53 Versand
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In den WarenkorbZustand: New. pp. xviii + 354 Illus.
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Ligand Field Theory and Its Applications (Special Topics in Inorganic Chemistry)
Sprache: Englisch
Verlag: Vch Verlagsgesellschaft Mbh, 1999
ISBN 10: 0471317764 ISBN 13: 9780471317760
Anbieter: Revaluation Books, Exeter, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
EUR 239,51
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In den WarenkorbHardcover. Zustand: Brand New. 1st edition. 354 pages. 9.75x6.75x1.00 inches. In Stock.
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Sprache: Englisch
Verlag: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
EUR 280,68
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Sprache: Englisch
Verlag: ROYAL SOCIETY OF CHEMISTRY, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Zustand: New. A comprehensive overview on the key aspects of chemical vapour deposition processes written by practising CVD technologists who are also leading international experts.Über den AutorrnrnAnthony C Jones is a Professor in the Department of.
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Chemical Vapour Deposition : Precursors, Processes and Applications
Sprache: Englisch
Verlag: Royal Society Of Chemistry Dez 2008, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Deutschland
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Buch. Zustand: Neu. Neuware - Chemical Vapour Deposition (CVD) involves the deposition of thin solid films from chemical precursors in the vapour phase, and encompasses a variety of deposition techniques, including a range of thermal processes, plasma enhanced CVD (PECVD), photon- initiated CVD, and atomic layer deposition (ALD). The development of CVD technology owes a great deal to collaboration between different scientific disciplines such as chemistry, physics, materials science, engineering and microelectronics, and the publication of this book will promote and stimulate continued dialogue between scientists from these different research areas. The book is one of the most comprehensive overviews ever written on the key aspects of chemical vapour deposition processes and it is more comprehensive, technically detailed and up-to-date than other books on CVD. The contributing authors are all practising CVD technologists and are leading international experts in the field of CVD. It presents a logical and progressive overview of the various aspects of CVD processes. Basic concepts, such as the various types of CVD processes, the design of CVD reactors, reaction modelling and CVD precursor chemistry are covered in the first few chapters. Then follows a detailed description of the use of a variety CVD techniques to deposit a wide range of materials, including semiconductors, metals, metal oxides and nitrides, protective coatings and functional coatings on glass. Finally and uniquely, for a technical volume, industrial and commercial aspects of CVD are also discussed together with possible future trends, which is an unusual, but very important aspect of the book. The book has been written with CVD practitioners in mind, such as the chemist who wishes to learn more about CVD processes, or the CVD technologist who wishes to gain an increased knowledge of precursor chemistry. The volume will prove particularly useful to those who have recently entered the field, and it will also make a valuable contribution to chemistry and materials science lecture courses at undergraduate and postgraduate level.
