Borst christopher lyle lyle (7 Ergebnisse)
Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses. Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology.
Borst, Christopher Lyle, William N. Gill and Ronald J. Gutmann:
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Chemical-Mechanical Polishing Of Low Dielectric Constant Polymers And Organosilicate Glasses (Hb)
Borst, Christopher Lyle; Gill, William N.; Gutmann, Ronald J.
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Chemical-mechanical Polishing Of Low Dielectric Constant Polymers And Organosilicate Glasses: Fundamental Mechanisms And Application To Ic Interconnect Technology
Borst, Christopher Lyle; Gill, William N.; Gutmann, Ronald J.
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Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses: Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology
Borst, Christopher Lyle; Gill, William N.; Gutmann, Ronald J.
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Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses: Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology
Borst, Christopher Lyle; Gill, William N.; Gutmann, Ronald J.
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses | Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology | Christopher Lyle Borst (u. a.) | Taschenbuch | xiv | Englisch | 2014 | Springer US | EAN 9781461354246 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, juergen[dot]hartmann[at]springer[dot]com | Anbieter: preigu.…
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