Neuware -HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering) is a relatively new highly ionized sputtering technique used to deposit engineering quality thin films, with the advantage that the deposition flux can be guided to the substrate through the electrical biasing. As the technique is on the verge of being adopted by the industries, it is necessary to understand its physics very well so that thin films with tailored properties can be deposited. Therefore, time-resolved diagnostic studies have been carried out to get better physical insight of the HiPIMS processes. This book also provides information of lower deposition rates in HiPIMS discharge and suggests its solutions.VDM Verlag, Dudweiler Landstra�e 99, 66123 Saarbr�cken 212 pp. Englisch.

Bestandsnummer des Verk�ufers 9783639716467

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Bibliografische Details

Titel

Transient Properties of HiPIMS Discharges

Verlag

Scholars' Press Mai 2014

Erscheinungsjahr

2014

Sprache

Englisch

ISBN-10

3639716469

ISBN-13

9783639716467

Einband

Taschenbuch

Zustand

Neu

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Inhaltsangabe

HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering) is a relatively new highly ionized sputtering technique used to deposit engineering quality thin films, with the advantage that the deposition flux can be guided to the substrate through the electrical biasing. As the technique is on the verge of being adopted by the industries, it is necessary to understand its physics very well so that thin films with tailored properties can be deposited. Therefore, time-resolved diagnostic studies have been carried out to get better physical insight of the HiPIMS processes. This book also provides information of lower deposition rates in HiPIMS discharge and suggests its solutions.

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