Optical and EUV Lithography A Modeling Perspective

Erdmann, Andreas

ISBN 10: 1510639012 ISBN 13: 9781510639010
Verlag: Spie Press, 2021
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374 pages. 9.92x6.97x0.83 inches. In Stock. Bestandsnummer des Verkäufers 1510639012

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Inhaltsangabe:

Erdmann helps students science, engineering, and mathematics get started in lithographic techniques for nanofabrication. The material should also help senior engineers and managers widen their view on alternative methods and applications, he says. His focus is on the fundamental principles of image and pattern formation, rather than details of technique. His topics include image formation in project lithography, optical resolution enhancements, lithography with extreme-ultraviolet light, optical lithography beyond projection imaging, and mask and water topography effects in lithography. Annotation ©2021 Ringgold, Inc., Portland, OR (protoview.com)

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Bibliografische Details

Titel: Optical and EUV Lithography A Modeling ...
Verlag: Spie Press
Erscheinungsdatum: 2021
Einband: Paperback
Zustand: Brand New

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