Ion Implantation and Annealing Applications, Science and Technology : Contributions from IIT School, Edition 2026

Sprache: Englisch

Verlag: Springer Nature Switzerland AG Okt 2026, 2026

3032311721 / 9783032311726

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Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book is a new, comprehensive, tutorial-style reference from the IIT2026 school that unifies ion implantation and annealing, guiding the reader from historical context and fundamental beam physics through to full process integration in advanced semiconductor manufacturing. It uniquely combines rigorous coverage of ion sources, beam transport, implanter and annealer hardware, and state of the art thermal processing for Si, Ge, SiC, GaN, and other materials with a practical comparison of commercial tool platforms. Dedicated materials science chapters explain implantation induced defects in key semiconductor materials, their evolution during annealing, and the diffusion and dopant activation mechanisms that ultimately determine device performance, variability, and reliability. Extensive treatments of metrology, contamination control, and safety, together with forward looking application chapters for logic, memory, image sensors, and power devices, make the volume both an ideal introduction for newcomers and an authoritative reference for experienced engineers and scientists.

Bestandsnummer des Verkäufers 9783032311726

Titel
Ion Implantation and Annealing Applications, Science and Technology : Contributions from IIT School, Edition 2026
Autor
Wilfried Lerch
Verlag
Springer Nature Switzerland AG Okt 2026
Veröffentlichungsjahr
2026
Zustand
Neu
Einband
Buch
Sprache
Englisch
ISBN-10
3032311721
ISBN-13
9783032311726
Artikelgewicht
1.281 Gramm
Abmessungen
235x155x35 mm

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