Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability

Sprache: Englisch

Verlag: Morgan & Claypool, 2005

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Titel
Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability
Autor
Young-Hee Kim; Jack C. Lee
Verlag
Morgan & Claypool
Erscheinungsjahr
2005
Zustand
Acceptable
Buchtyp
Ex-Library
Einband
Soft Cover
Sprache
Englisch
ISBN-10
1598290045
ISBN-13
9781598290042

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