Chemical Processing of Dielectrics, Insulators and Electronic Ceramics : Volume 606

Sprache: Englisch

Verlag: Cambridge University Press, 2014

1107413206 / 9781107413207

Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, DeutschlandAHA-BUCH GmbH

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Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book focuses on the creative use of chemistry in the fabrication of a variety of oxide and non-oxide materials which are likely to play a crucial role in the development of the next generation of microelectronics devices. It includes inorganic precursor chemistry, gas-phase and solid-state chemistry, materials science, chemical physics and chemical engineering. Highlights include the deposition of high-k dielectric gate oxides, ferroelectric oxide films for infrared and memory applications, low-k dielectrics, TiN and TaN diffusion barriers, and fresh precursors for III-V nitrides. The emphasis is on chemical methods for the controlled deposition of thin films, for which chemical vapor deposition (CVD) has proven to be a useful and versatile technique. Of particular interest is the use of liquid-injection MOCVD for the deposition of oxide multilayers and superlattices. Solution deposition techniques such as sol-gel, metalorganic decomposition (MOD), hydrothermal processing are also prominently featured. Topics include: CVD of oxide ceramics; CVD of nonoxide ceramics; solution deposition of electronic ceramics; alternative chemical processing methods and characterization of electronic ceramics.…

Bestandsnummer des Verkäufers 9781107413207

Titel
Chemical Processing of Dielectrics, Insulators and Electronic Ceramics : Volume 606
Autor
Donald Mullin
Verlag
Cambridge University Press
Erscheinungsjahr
2014
Zustand
Neu
Einband
Taschenbuch
Sprache
Englisch
ISBN-10
1107413206
ISBN-13
9781107413207
Artikelgewicht
477 Gramm
Abmessungen
229x152x18 mm

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