Advances in CMP Polishing Technologies. Dieser Artikel ist nicht verfügbar.
Sprache: Englisch
Verlag: William Andrew, 2011
- Hardcover
- Neu

Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes KönigreichRia Christie Collections
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Zustand: Neu
EUR 217,52
Artikelbeschreibung des Verkäufers
In English.
Bestandsnummer des Verkäufers ria9781437778595_new
- Titel
- Advances in CMP Polishing Technologies
- Verlag
- William Andrew
- Erscheinungsjahr
- 2011
- Zustand
- New
- Einband
- Hardcover
- Sprache
- Englisch
- ISBN-10
- 1437778593
- ISBN-13
- 9781437778595
- Artikelgewicht
- 736 Gramm
CMP and polishing are the most precise processes used to finish the surfaces of mechanical and electronic or semiconductor components. Advances in CMP/Polishing Technologies for Manufacture of Electronic Devices presents the latest developments and technological innovations in the field – making cutting-edge R&D accessible to the wider engineering community.
Most of the applications of these processes are kept as confidential as possible (proprietary information), and specific details are not seen in professional or technical journals and magazines. This book makes these processes and applications accessible to a wider industrial and academic audience.
Building on the fundamentals of tribology – the science of friction, wear and lubrication – the authors explore the practical applications of CMP and polishing across various market sectors. Due to the high pace of development of the electronics and semiconductors industry, many of the presented processes and applications come from these industries.
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