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X-Ray Diffraction at Elevated Temperatures: A Method for in Situ Process Analysis - Hardcover

 
9783527278428: X-Ray Diffraction at Elevated Temperatures: A Method for in Situ Process Analysis
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Reseña del editor:
This monograph provides detailed information on the principles, instrumentation, and application of X-ray diffraction at elevated temperatures. More particularly, it summarizes the uses of intense X-ray sources and position-sensitive detectors to assess them in comparison with competing techniques for in situ process analysis at elevated temperatures. This book is intended for use in the training of personnel and in the promotion of the process. Within the areas of X-ray diffraction, materials characterization and thermal analysis, it should be of interest to crystallographers, thermal analysts, materials scientists, physicists, chemists, chemical engineers, and electrical engineers.

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  • VerlagWiley-VCH Verlag GmbH
  • Erscheinungsdatum1993
  • ISBN 10 3527278427
  • ISBN 13 9783527278428
  • EinbandTapa dura
  • Anzahl der Seiten272

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Softcover

  • 9780471187264: X-ray Diffraction at Elevated Temperatures: A Method for In Situ Process Analysis

    John W..., 1993
    Hardcover

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Chung, Deborah D; Detlaven, Patrick W; Arnold, H; Ghosh, Debastis
Verlag: Wiley-VCH (1993)
ISBN 10: 3527278427 ISBN 13: 9783527278428
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Anbieter:
Buchpark
(Trebbin, Deutschland)
Bewertung

Buchbeschreibung Zustand: Sehr gut. Zustand: Sehr gut - Gepflegter, sauberer Zustand. Aus der Auflösung einer renommierten Bibliothek. Kann Stempel beinhalten. | Seiten: 268 | Sprache: Deutsch. Artikel-Nr. 42297414/202

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