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Inhaltsangabe
Develops detailed understanding of the deposition and etching of materials by sputtering discharge, and of etching of materials by chemically active discharge. Treats glow discharge at several levels from basic phenomena to industrial applications--practical techniques diligently related to fundamentals. Subjects range from voltage, distributions encountered in plasma etching systems to plasma-electron interactions that contribute to sustaining the discharge.
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Über die Autorin bzw. den Autor
Brian Chapman is the author of Glow Discharge Processes: Sputtering and Plasma Etching, published by Wiley.
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- VerlagJohn Wiley & Sons
- Erscheinungsdatum1980
- ISBN 10 047107828X
- ISBN 13 9780471078289
- EinbandTapa dura
- SpracheEnglisch
- Anzahl der Seiten428
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Glow Discharge Processes : Sputtering and Plasma Etching
Verlag:
Wiley & Sons, Incorporated, John, 1980
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Buch. Zustand: Neu. Neuware - Develops detailed understanding of the deposition and etching of materials by sputtering discharge, and of etching of materials by chemically active discharge. Treats glow discharge at several levels from basic phenomena to industrial applications-practical techniques diligently related to fundamentals. Subjects range from voltage, distributions encountered in plasma etching systems to plasma-electron interactions that contribute to sustaining the discharge. Artikel-Nr. 9780471078289
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Glow Discharge Processes Sputtering and Plasma Etching
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Hardcover. Zustand: Brand New. 1st edition. 406 pages. 9.75x6.50x1.00 inches. In Stock. Artikel-Nr. x-047107828X
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