Inhaltsangabe
In den vergangenen Jahren hat die Elliposometrie, eine zerstörungsfreie und berührungslose optische Oberflächenanalysetechnik, in industriellen Bereichen wie der Technologie elektronischer Geräte an Bedeutung gewonnen, als einfache Instrumente, viele davon computergesteuert und automatisiert, verfügbar wurden. Die potenziellen Nutzer solcher Instrumente sind sich jedoch häufig weder der inhärenten Möglichkeiten dieser Technik noch ihrer Genauigkeitsbeschränkungen bewusst. Dieses Buch bemüht sich, einige der weniger offensichtlichen Merkmale und Möglichkeiten der Ellipsometrie, insbesondere von dynamischen "in situ"-Messungen, aufzuzeigen, und überprüft seine Anwendungen in der Forschung und Herstellung von Halbleiter- und Dünnschichtgeräten. Es wird eine umfassende Diskussion verschiedener insbesondere für einfache Ellipsometer typischer Fehlereffekte und deren Auswirkungen auf gemessene Probenparameter bereitgestellt. Fehlerkorrektur- oder (numerische) Kalibrierungsverfahren werden nach Möglichkeit gegeben und Design- und Betriebsrichtlinien für Hochgeschwindigkeitsinstrumente, die für dynamische "in situ" Messungen geeignet sind, werden vorgeschlagen.
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